Lab-type dip-coater
이 제품은 딥 코팅용이며 빠르게 기화하는 솔벤트 (1-Propanole) 는 하단부터 딥핑을 할 때 분당 12cm의 속도로 증발하므로 포토레지스트(photoresist)의 손실이 없습니다. 이 제품에서 커다란 레지스트 비드를 관찰할수 없으며 저속(low speed)에서는 레지스트의 방울짐이 없습니다.
Lab-type dip-coater |
이 제품은 딥 코팅용이며 빠르게 기화하는 솔벤트 (1-Propanole) 는 하단부터 딥핑을 할 때 분당 12cm의 속도로 증발하므로 포토레지스트(photoresist)의 손실이 없습니다. 이 제품에서 커다란 레지스트 비드를 관찰할수 없으며 저속(low speed)에서는 레지스트의 방울짐이 없습니다.
|
특 성
Property |
Unit |
Value |
Method |
|---|---|---|---|
색상(unexposed) |
n.a. |
암청색 |
visual |
색상(exposed) |
n.a. |
청색 |
visual |
Viscosity @ 20°C |
sec |
90 * |
Zahn Cup No.1 |
밀도(liquid) |
g/cm³ |
0.9 |
gravimetric |
밀도 (solid) |
g/cm³ |
1.25 |
gravimetric |
고형 성분t |
%wt |
27.5 |
gravimetric |
광감성(Photosensitivity) |
Stouffer SSG21 |
4 - 5 |
see processing |
표면 |
n.a. |
hard-contact exposure |
exposure in vacuum frame |
사용하기전에 점도 조절응 할 필요가 없습니다.
공 정
Process step |
조 건 |
|---|---|
Application |
Dip-coating at withdrawal speed between 5 - 20 cm/min |
Flash-off |
1-5 min at room temperature |
건 조 |
5 - 10 min @ 80°C in convection oven |
노광(Exposure) |
150 - 300 mJ/cm² (300 - 350 nm) |
현상(Developing) |
1% aqueous sodium carbonate; 35°C; 30 - 60 sec ** |
에칭(Etching) |
suitable for acidic media (ferric chloride, cupric chloride); limited stability in alkaline etchants (aqueous ammonia) |
박리(Stripping) |
2 - 5% potassium hydroxide at 50-90°C |
** 110°C에서 10분동안의 포스트 베이크는 접착성과 기계적 안정성을 향상 시킵니다.